Процессоры с маленькими транзисторами производятся с использованием нанометровых технологий. В основе этих технологий лежит применение литографии, метода печати микросхем на кремниевых подложках.
Для печати процессоров с маленькими транзисторами используется экстремальная ультрафиолетовая литография (EUV). В этом процессе применяется длина волны ультрафиолетового света, которая достигает около 13,5 нм. Оно используется для проекции изображения с маски на кремниевую подложку.
Однако, для достижения еще меньших размеров транзисторов, в некоторых случаях также применяются другие методы, такие как многократная литография и лазерная гравировка.
Все эти техники и методы позволяют производителям уменьшать размеры транзисторов и увеличивать плотность интеграции на кремниевых подложках, что в свою очередь делает возможным создание более мощных и эффективных процессоров.